三靶射频磁控镀膜仪（gy202208816）采购公告
· 2022-12-09
| 项目名称 | 三靶射频磁控镀膜仪 | 项目编号 | GY202208816 |
|---|---|---|---|
| 公告开始日期 | 2022-12-09 08:47:27 | 公告截止日期 | 2022-12-14 09:00:00 |
| 采购单位 | 山东大学 | 付款方式 | 货到付款 |
| 联系人 | 联系电话 | ||
| 签约时间要求 | 成交后3个工作日内 | 到货时间要求 | 合同签订后60天内 |
| 预算总价 | 305000.0 | ||
| 收货地址 | 山东大学中心校区环境楼408 | ||
| 供应商资质要求 | 符合《政府采购法》第二十二条规定的供应商基本条件 | ||
采购清单
| 采购商品 | 采购数量 | 计量单位 | 所属分类 |
|---|---|---|---|
| 三靶射频磁控镀膜仪 | 1 | 套 | 其他特种设备 |
| 品牌 | 沈阳科晶 |
|---|---|
| 型号 | VTC-600-3HD-1000 |
| 技术参数及配置要求 | 一、功能指标1.具备3个靶位，一次抽真空可最多溅射3种靶材；2.具备直流溅射与射频溅射功能，可以溅射金、银等金属靶材，也可以溅射陶瓷等绝缘靶材；3.工作过程全自动控制，自动实现进气气路控制、真空管路控制、溅射参数控制、加热控制、样品台转动控制等功能；4.具备实时膜厚监测功能（石英晶振片）；5.触控屏交互界面，可以设置工作参数、显示运行状态与参数；6.样品台具备可调速旋转功能与可调速加热功能。二、技术指标1.靶枪数量：3个（两个配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜，一个配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜）2.直流溅射功率：≥300 W3.射频溅射功率：≥300 W4.靶枪冷却方式：水冷5.靶材规格：Φ2，厚度0.1-5 mm6.样品台尺寸：≥Φ70 mm7.样品台加热范围：室温～1000 ℃8.样品台转速：1 rpm - 20 rpm可调9.真空室规格：≥Φ300×330 mm10.真空腔室开启方式：上开盖11.极限真空度：7.4E-5 Pa12.真空系统：机械泵（VRD-16） 涡轮分子泵（FF-100/150）13.恢复真空：系统从大气抽至5.0E-3 Pa≤30 min（系统短时间暴露大气）14.进气系统：2路质量流量计（1路氧气100scc 1路氩气200scc）15.膜厚检测：石英晶振片16.真空检测：电阻规 电离规17.安装条件：1)水：设备配有自循环冷却水机（加注纯净水或者去离子水）2)电：AC 220 V，50 Hz，必须有良好接地3)气：设备腔室内需充注氩气（纯度99.99%以上，自备氩气气瓶及减压阀）4)工作台要求：尺寸1500 mm×600 mm×700 mm，承重200 kg以上5)通风装置：需要良好通风三、配置1.溅射主机一台；2.真空检测系统1套；3.直流电源控制系统1套；4.射频电源控制系统2套；5.膜厚监测仪系统1套；6.分子泵（德国进口或者国产大抽速）1台；7.水冷机1台；8.聚酯PU管（？6 mm）4 m。四、售后服务1.整机质保1年；2.到货后负责设备上楼；3.到货验收后工程师免费上门提供设备调试与培训服务。 |
| 售后服务 | 服务网点:不限;质保期限:1年;响应期限:报修后48小时; |
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